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微電子半導(dǎo)體及高純液晶材料制備及耐腐蝕過濾芯材料介紹

發(fā)布日期：2020-11-10 作者：大連義邦科技瀏覽數(shù)：13058

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在過濾半導(dǎo)體制造用的刻蝕液、剝離液以及液晶電視用的液晶原料時，對濾芯的耐腐蝕及溶出物的要求非常嚴(yán)格，由于全氟濾芯耐腐蝕及耐溶出性優(yōu)良，對過濾介質(zhì)要求嚴(yán)格的電子信息材料和具有腐蝕藥液等過濾制作行業(yè)精準(zhǔn)適用。下面是不同污染物選擇對應(yīng)化學(xué)品和濾芯的實際應(yīng)用案例分享。

1、H2SO4/H2O2

利用硫酸及雙氧水的強氧化性和脫水性破壞有機物的碳?xì)滏I，去除有機不純物。

H2SO4：H2O2=2~4：1,在130度高溫下進(jìn)行10~15分鐘的浸泡。

2、HF/H2O(DHF)或HF NH4F/H2O(BHF)

清除硅晶圓表面自然生成的氧化層，通常使用稀釋后的氫氟酸（0.49%~2%）或以氫氟酸和氟化銨生成的緩沖溶液。

HF:NH4F=1：200~400，在室溫下進(jìn)行15~30秒反應(yīng)

3、NH4OH/H2O2/H2O(SC-1):

利用氨水的弱堿性活化硅晶圓及微粒子表面，使晶圓表面與微粒子間產(chǎn)生相互排斥；雙氧水具有氧化晶圓表面的作用，然后氨水對SiO2進(jìn)行微刻蝕，去除顆粒

氨水與部分過度金屬離子形成可溶性絡(luò)合物，去除金屬不溶物。

H2O:H2O2:NH4OH=5:1:1~7:1:1(H2O2:30%,NH4OH:29%)

4、HCl/H2O2/H2O(SC2):

利用雙氧水氧化污染的金屬，而鹽酸與金屬離子生成可溶性的氯化物而溶解。

HCl/H2O2/H2O=1:1:6~1:2:8，在70度下進(jìn)行5~10分鐘清洗（HCl:37%,H2O2:30%）

全氟折疊濾芯，通常膜、中心桿及外殼采用PTFE材料,支撐層采用PFA或PTFE材料，PFA為少量全氟丙基全氟乙烯基醚與聚四氟乙烯的共聚物。熔融粘結(jié)性增強，溶體粘度下降，而性能與聚四氟乙烯PTFE相比無變化。

PFA和PTFE長期使用溫度-80到260度，有特殊的耐化學(xué)腐蝕性，因此全氟折疊濾芯可以滿足最惡劣環(huán)境中最嚴(yán)格的過濾要求，適用于微電子行業(yè)各種強腐蝕性酸、堿、有機溶劑等化學(xué)品的過濾。流體動力學(xué)設(shè)計，使過膜壓差更低，單位面積通量更大。打褶設(shè)計使膜面積更大，納污量更高，使用壽命更長。

Dexmet全氟折疊濾芯支撐網(wǎng)，根據(jù)特定的材質(zhì)、過濾精度、材料寬度、材料厚度、開放面積、孔徑及其他特殊工藝，定制最適合其應(yīng)用的濾膜支撐網(wǎng)。全球為數(shù)不多可以穩(wěn)定生產(chǎn)高純度PFA和PTFE網(wǎng)的廠家，是全氟折疊濾芯Pall、Paker的供應(yīng)商。（擁有ASTM材料與試驗協(xié)會認(rèn)證，材質(zhì)純度高達(dá)99%以上）通過DB或DDB工藝，確保過濾器應(yīng)用流量的一致性。根據(jù)不同應(yīng)用，確保過濾器應(yīng)用流量的一致性。

本文意在傳播新材料資訊，部分圖片來自網(wǎng)絡(luò)。

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